钨坩埚的核心特性

　　✅超高熔点：3422°C，是目前金属中熔点高的材料。

　　✅高温强度：在2000°C以上仍保持结构稳定性，不易变形。

　　✅耐腐蚀性：抗熔融金属（如铜、铝、金、银）和部分熔盐侵蚀。

　　✅低蒸气压：真空环境下几乎不挥发，适合高纯材料制备。

　　✅高导热性：温度分布均匀，适合晶体生长等精密工艺。

　　主要应用领域

　　（1）高温材料熔炼

　　稀土金属提纯：如钇、钆、镝等（熔炼温度>1500°C）。

　　贵金属熔炼：金、银、铂等高温合金的熔化和铸造。

　　半导体材料：GaAs、InP等化合物半导体的单晶生长。

　　（2）真空镀膜与蒸发源

　　电子束蒸发（EBE）：用于高熔点材料（如氧化物、碳化物）的镀膜。

　　热蒸发镀膜：作为坩埚承载铝、铜等蒸发材料。

　　（3）蓝宝石晶体生长

　　泡生法（Kyropoulos）：盛装氧化铝熔体（温度>2050°C）。

　　导模法（EFG）：生产大尺寸蓝宝石衬底。

　　（4）科研与特殊工业

　　核工业：铀、钍等核燃料的试验性熔炼。

　　高温化学合成：如碳化钨（WC）、氮化钨（WN）的制备。

　　制造工艺

　　粉末冶金：钨粉等静压成型+高温烧结（2200~2800°C）。

　　机械加工：CNC车床/铣床精加工内腔和螺纹。

　　焊接：电子束焊（EBW）拼接大型坩埚，确保气密性。

　　涂层处理：镀铱（Ir）或碳化钽（TaC）以增强抗氧化性。