半导体离子注入用高端钨钼部件
发布时间:2021-09-17来源:洛阳先创新材料有限公司点击:242字号:大中小
半导体离子注入技术是一种材料表面改性高新技术,在半导体材料掺杂以及金属、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上获得了极为广泛的应用,已成为当代大规模集成电路制造环节必不可少的手段。
洛阳先创是半导体离子注入用高端钨钼部件的主要供应商,可以提供钨高能离子源部件、钨或钼的大束流离子注入部件、钼中束流离子源部件等。
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半导体离子注入技术是一种材料表面改性高新技术,在半导体材料掺杂以及金属、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上获得了极为广泛的应用,已成为当代大规模集成电路制造环节必不可少的手段。
洛阳先创是半导体离子注入用高端钨钼部件的主要供应商,可以提供钨高能离子源部件、钨或钼的大束流离子注入部件、钼中束流离子源部件等。
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